他进一步解释 ，怕中从整体表现来看完成度非常出色 ，国自补齐当前阶段的研光算力供给缺口。当时他被问到中国什么时候能完全自主研发出先进光刻机 ，刻机黄仁勋给出的啥时斯克判断是 ，自己认为中国解决算力供给问题的候到黄仁速度，
早前举办的勋马All-In科技峰会上，
惊人中国到2030年左右就能拿出完全自研的欧美先进光刻系统 。黄仁勋还补充提到 ，怕中最终为AI产业的国自健康发展筑牢稳固的算力底盘 。靠单位算力输出的研光实际性能 ，
就在之前接受央视财经专访的过程中 ，几乎站在了全球顶尖梯队 。啥时斯克一旦相关核心技术完成突破走向成熟 ，只是时间早晚的问题 。大概两到三年内 ，NVIDIA CEO黄仁勋也曾回应过主持人提出的相关问题 ，中国就能依托自主可控的光刻技术与全链条芯片制造能力，目前中国本土的AI大模型技术 ，这些国产半导体制造设备进入本土晶圆厂完成规模化落地 ，正在逐步形成合力 ，把当前的算力缺口完全补齐 。给出了一个粗略的预判 ，
两位全球科技行业头部企业的掌舵人先后给出的相似判断，马斯克也提到 ，从光刻设备到成熟制程芯片制造的各项技术突破 ，
近期马斯克在公开访谈中给出了自己的判断 ，大概两到三年时间内 ，中国本土企业就会爆发出极强的大规模量产能力 ，中国就能依靠自主突破的光刻技术与成熟芯片制造体系 ，也侧面印证了国内半导体全链条自主研发的推进速度远超外界此前的预期 ，